另一个时空，光刻机的发展经过了一个漫长的过程，1960年代的接触式光刻机、接近式光刻机，到1970年代的投影式光刻机，1980年代的步进式光刻机🁞，到步进式扫描光刻机，到浸入式光刻机和8102年的EUV光刻机，设备性能不断提高，推动集成电路按照摩尔定律往前发展。
曝光光源方面，从1960年代初到1980年代中期，汞灯已用于光刻，其光谱线分别为436ng线）、405nh线）和365ni线）。然而，随着半导体行业对更高分辨率（集成度更高和速度更快的芯片）和更高产量（更低成本）的需求，基于汞灯光源的光刻工具已不再能够满足半导体业界的高端要求。🖍👘
1982年，IBM的KantiJain开创性的提🛻⚀🎏出了“exbsp;laserlithography（准分子激光光刻）”，并进行了演示，现在准分子激光光刻机器（步进和扫描仪）在球集成电路生产中得到广泛使用。在在发展的30年中，准分子激光光刻技术一直是摩尔定律持续推进的关键因素。使得芯片制造中的最小特征尺寸从1990年的500nnbsp;推进至2016年10n再到81🕼🎼🖜02年的台积电和三星实现量产的7nnbsp;产品。
这其中，汞灯的436ng线）、🎍🏶405nh线）和365ni线🃟🙀），准分子激光24🏈8n指的是光刻机用来光刻的曝光光源。
1971年Intel公司推出的10微米球第一款4004微处理器，再到1980年2微米工艺的256KbDRAM，1984年1微米工艺的1MbDRAM，再到1991年此时即将问世的0.35微米工艺的64M🇲🜟🃖bDRAM……10微米到0.35微米，指的是通过光刻机光刻等工艺，在芯片内部中，晶体管🞞之间或者线最小可以做到的距离。
微米和纳米的概念，到底有多宽或者多细，大家可以体会🜉一🚀下：
1毫米（）等于⛪1🚋000微米（μ，一微米（）等于1000纳米（n。
而成年男性的头发直径一般在40到80微米之间，女性的头发直径则🃕🗧一般在20微米到40微米之间，小孩子的头发则是40微米左右。
也就是♡说，此时工艺💭为1🚻微米的芯片中，晶体管的线宽大概是小孩头发直径的1/40；换而言之，直径40微米的头发横切之后的面积上，按照1微米的工艺光刻，可以光刻20-30个晶体管！
而光刻工艺越好⛪，工艺制程越小，芯片集💅成度越高，🃚😘🁧性能越好，功耗越低。
所以，电子产品不断追求卓越🐹🄮性能的背后，是芯片的处理能力的不断上升！而反应到🟕🝁芯片生产厂家和芯片制造设备上，就是对芯片制程工艺的不断缩小和光刻机等设备光刻特征尺寸的不断缩小。
所以，余子贤一心一想要A😩🄅SML可以制造出0.8微米工艺制程芯☜⛵片的PAS5000光刻机，最次也要拿到1.2微米的PAS2300光刻机。甚至不惜，给ASML制造一些紧张气息，透露PAS5500扫描式步进光刻机的相关信息！
“你怎么知道我们PAS55🐹🄮00型光刻机即将上世的？”里托斯·基🃕🗧维先生站了起来，怼着余子贤的脸，严肃的问道！
“里托斯·基维先生，我们的合作的可能已经消失了……所以，很抱歉，我不可能告🟕🝁诉你原因的！”
“不不……余先生，一切皆有可能！”
“走吧……”余子贤直接带头站了起来，带着其他几个人🜉向外走去！
余子贤就这样走出去，虽然更多的是想给ASML🗇一些压力，让他们退让，愿意以合理价格出售自🐝🀹己想要的光刻机！就算是1微米的PAS2500出售有困难，但是如果ASML可以无偿将🅫🉢🉀1.5微米的PAS2300升级到1.2微米，倒也不是不可以接受。
不过，余子贤在看到天下的乌鸦一般黑之后，已经做好了最坏的打算。之前，余子贤本来想着捡PAS🈖♹2300的便宜，可是如果只是1.5微米的制程，余子贤还想再看一看，他想让曹飞🚚📽☭他们再重点公关一下佳能，或许以可以🇲🜟🃖接受的价格引进1.2微米的光刻机有可能！
里托斯·基维🅰一看余子贤直接到这人走了，也是有点急了，再次大声喊道：“👇余先生，你等🙡一等，我立即向总部申请！”